本设备是用于真空蒸发镀光学薄膜、低熔点金属和合金薄膜。特别适合小型企业、科研单位和高校研发、教学使用。1 极限真空度 ￡6.6×10  Pa；

2 真空获得系统采用分子泵 机械泵机组；

3 连续抽气30分钟，真空度 ￡8×10  Pa；

4 蒸发：电阻式蒸发电极3组，蒸发电源：2套，功率2KW；

5 基片架：旋转（可选）、加热(可选)、水冷基片盘（可选）

6 功能性辅助：基片负偏压（选配）、高压离子轰击（选配）、腔体烘烤(选配)

7 膜厚测量：配备石英晶振膜厚仪一套，含水冷探头。